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技术中心研制出低钨高纯氧化钼

发布日期:2019-03-22 03:10    作者:厉学武 安耿    来源:技术中心
  近日,技术中心科研团队经过技术攻关,攻克了钨钼分离的关键技术,成功制备出了钨含量低于30ppm高纯氧化钼。
  低钨高纯氧化钼是制备超高纯Mo的原料。超高纯Mo广泛应用于电子、纳米技术、检测分析等领域。长期以来,由于钨钼性质相似,分离困难,致使高纯氧化钼中钨含量维持在100ppm左右。技术中心团队通过研究钨、钼物理化学性质和钨、钼化合物物理化学性质及其化合物之间相互转化的基本规律,运用钨、钼化合物之间转化规律差别,精准控制氧化钼制备参数,成功制备出了钨含量低于30ppm的高纯氧化钼。
  低钨纯氧化钼产品的成功研制,标志着公司钼提纯技术实质性突破,也为进一步超高纯Mo的研制成功打下坚实基础。
                    

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